什么是直接结合镁铬砖(direct%26mdash;bonded magnesite chrome brick)
简略解释一下以方镁石和镁铬尖晶石为主晶相直接结合的耐火制品。该砖是以SiO2小于2％的高纯烧结镁砂和铬铁矿为质料，经过高温烧结而制成。
简史碱性砖的直接结合概念是1959年由英国拉明提出的。关于直接结合的机理，戴维斯(Davies)以为：因为RO和R2O3的彼此分散和反响而发生的。哈布尔(Hubble)以为是MgO和2～3种氧化物反响生成镁尖晶石而发生的。梅内泽斯(Menezes)经过E．P．M．A剖析，研讨方镁石和铬铁矿之间的直接结合部分的组成，以为平均组成为(Al0.5Cr0.4Fe0.1)O4。发生直接结合的温度，拉明以为，在SiO2含量少时，1600℃就能发生很好的结合；哈布尔指出，假如SiO2含量少，在1649～1677℃下烧成即可；布雷兹尼(Brezn}r)以为：在1750℃下烧成的制品，直接结合程度已十分高。在讨论烧成温度对镁铬砖功能影响的工作中海赫斯特致zh(Hayhurst)和拉明判定，在最高烧成温度下，溶于液态硅酸盐中的尖晶石在冷却时分出，构成直接结合。在美国，直接结合镁铬砖在1961年底就呈现于商场，用在炉子结构中接受应力和炉渣腐蚀严峻的部位，简直彻底替代了硅酸盐结合砖。
功能直接结合砖烧结归于固相结合，故制品高温机械强度高，抗渣性好，抗氧化铁渗透力强，高温下体积安稳。直接结合镁铬砖的主要功能见表。
镁铬晶粒之间为方镁石方镁石或方镁石尖晶石的直接结合，少数硅酸盐以孤立状处于晶粒之间。直接结合砖在烧成进程中，铬矿粒子缝隙中的硅酸盐跟着温度升高逐步移入基质，使铬矿粒子与方镁石接触，并向方镁石晶内分散溶解。高温下，基质部分的方镁石和铬矿在硅酸盐中溶解，冷却时，在方镁石晶内和晶粒鸿沟沉淀为脱溶粒子次生尖晶石或次生方镁石，使之构成方镁石～方镁石和方镁石尖晶石的直接结合，少数硅酸盐相则孤立于晶粒之间。跟着烧成温度进步，高温下的溶解和冷却时的脱溶加剧，晶问直接结合程度随之进步。
生产工艺为使颗粒之间构成直接结合，质料的SiO2含量要低。烧结低SiO2含量的制品，有必要进步烧成温度。现有的直接结合镁铬砖的SiO2含量一般小于2％，烧成温度在1700～1800℃之间。直接结合的构成是一个溶解沉析进程。添加铬矿细粉含量，有利于直接结合的构成。因而，在配猜中有必要留意铬矿细粉配比。有硅酸盐存在时，方镁石一方镁石问的结合会被Cr2O3所加强，而被Al203和Fe203所下降；在镁铬砖中参加Al203或Fe203可下降硅酸盐熔点，参加Cr203熔点则进步。因而，选用cr203含量高的铬矿较Cr203含量低的铬矿有更高的高温强度。次生尖晶石是直接结合砖的特征。Cr203含量越高，晶内和晶间尖晶石越多，制品强度越高，抗渣性越强。应根据运用特色，挑选合适的铬矿参加量。制品烧成有必要在弱氧化气氛下进行，其生产工艺流程见图。
使用直接结合砖广泛用于平炉炉顶、电弧炉、炼铜转炉、闪速炉、RH、DH真空处理设备、炉外精粹VOD炉、AOD炉、水泥回转窑等。
